移轉到新產線, 圖像採擷環境有差異

Domain Adaptation

經過一番奮鬥, 我們的瑕疵偵測模型上線後, 準確度極高, 過一陣子有新產線時是否直接把模型移植到新廠就可以使用? 在環境所有的 recipe 都設定一致, 也許可以. 但是在產線上, 為了效率, 我們通常會把所有細節都微調到極致, 這代表到新廠時, 很難完全一致.

通常到新廠, 除了將舊廠環境 copy exactly 到新廠這樣就不會有環境的差異. 還有一個可嘗試 Domain Adaptation.

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